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功能化膜智能制备技术(杜尔考特技术)是一种轻合金表面纳米功能化陶瓷膜制备技术。该项技术基于“电极阻抗分形频谱响应”新理论模型,建立了数据库,实现智能反馈控制,成功制备纳米或微纳米级的氧化膜,该膜层具有多项指标优化兼容的特性。
杜尔考特技术针对PEO过程冲击电流异常放电问题,自主开发新型电源设备,解决大功率电源可靠性瓶颈问题。同时,针对PEO过程等离子体自发不安定放电破坏膜组织问题,实现智能反馈控制,突破微弧氧化高能电场畸变分布的局限性,实现“纳米晶相超临界生长”控制。
技术简介
Technology introduction -
DOER独有技术
DOER proprietary technology点击查看电磁兼容性:原位生长具有导电防护功能的超微弧氧化膜层,膜层可同时满足接触电阻≤10mΩ,中性盐雾≥96h;
温控特性:原位生产的膜层,半球发射率可达0.89,在高温环境下膜层功能稳定;
吸光特性(镁黑):无需后续处理工艺原位生产出镁合金黑色氧化膜,具有很好的吸光特性;
超绝缘特性:直流1000V下绝缘电阻可达8GΩ,交流击穿电压可达2000V;
高硬度低摩擦系数:显微硬度分布均匀可达HV1100,表面粗糙度可达Ra0.01μm。干摩擦系数≤0.16;
大面积加工能力:根据不同指标要求,最大单机生产能力达20㎡。
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铝合金:中性盐雾可达5000h,循环湿热≥42周期无变化,霉菌实验≥1000h,显微硬度可达HV1100分布均匀,加工精度±2μm。
镁合金:中性盐雾可达1000h,循环湿热≥42周期无变化,霉菌实验≥1000h,显微硬度可达HV400分布均匀,划痕盐雾可达1000h,经过石击考核达到4级,石击后盐雾≥180h;
钛合金:膜层厚度可达到70μm,显微硬度可达HV500分布均匀,干摩擦系数f≤0.3,具有多项生物功能特性。
DOER领先技术
DOER leading technology -
技术应用
Technology application点击查看航空航天领域,尤其是有导电防护、温控特性要求的部件;
国防军工领域,如飞行器机身及其发动机、起落轮、火箭、导弹及其发射架、卫星探测器、旋转罗盘、电磁套罩、雷达和电子装置以及地面控制装置等。重大武器装备,对三防性能(服役性、环境适应性)要求较为苛刻的领域,如岛礁、舰炮、潜航器等;
电子设备领域,3C产品、光学元器件、PCB板、5G手机外壳等,对于光学特性、绝缘性、装饰性要求苛刻的相关产品;
交通领域,如高铁列车上座椅、过渡车钩、蜂窝模块等,汽车部件轮毂、方向盘、仪表盘等涉及轻量化需求的相关产业。
生物医疗领域,如牙齿种植体、心脏瓣膜支架、人体关节、医疗器械等。